vanta
Vanta iX Beauty 2020 11 GN3A5074
vanta
Vanta iX Beauty 2020 11 GN3A5074
vanta ix

Phân tích XRF trong dây chuyền

Máy phân tích XRF trong dây chuyền Vanta™ iX Evident mang đến cho bạn sự tự tin vào sản phẩm của mình bằng cách tự động hóa phân tích vật liệu và nhận dạng hợp kim trên dây chuyền sản xuất. Được chế tạo để hoạt động 24/7, máy phân tích mang lại kết quả tức thì để kiểm tra 100% ống, thanh và thanh kim loại.

Liên hệ
Danh mục: ,

Máy phân tích XRF trong dây chuyền Vanta™ iX Evident để phân tích vật liệu tự động

Luôn cập nhật quy trình của bạn

Máy phân tích huỳnh quang tia X nội tuyến (XRF) Olympus Vanta™ iX mang đến cho bạn sự tự tin vào sản phẩm của mình bằng cách tự động hóa phân tích vật liệu và nhận dạng hợp kim trên dây chuyền sản xuất:

  • Cung cấp kết quả tức thì để giám sát quy trình theo thời gian thực và kiểm tra 100%
  • Được xây dựng để hoạt động 24/7
  • Được cấu hình để cung cấp kết quả đạt / không đạt, ID lớp chính xác và hóa học vật liệu

  • Quét và giám sát để kiểm soát cấp quặng trong khai thác mỏ

    Để xử lý và khai thác địa chất, máy phân tích Vanta iX Olympus cho phép quét lõi và phân tích trên vành đai với kết quả thời gian thực để theo dõi sự thay đổi của quá trình và đảm bảo tính nhất quán cấp quặng. Trong quá trình phân tích trên vành đai, máy phân tích cung cấp xác minh pha trộn và xác nhận quá trình cô đặc.

Thông số kỹ thuật Vanta™ iX

Kích thước (W × H × D) 10 cm × 7,9 cm × 26,6 cm (3,9 inch × 3,1 inch × 10,5 in.)
Trọng lượng 2,4 kg (5,29 lb)
Nguồn kích thích Ống tia X: Cực dương Rh hoặc W (tối ưu hóa ứng dụng) Model MR 5–200 μA
: 8–50 keV (tối đa 4 W)
Model CW: 8–40 keV (tối đa 4 W)
Lọc chùm tia sơ cấp Tám vị trí lọc được chọn tự động trên mỗi chùm tia trên mỗi phương pháp
Detector Model MR: Máy dò trôi silicon diện tích lớn Model
CW: Đầu dò trôi silicon tiêu chuẩn
Sức mạnh Cấp nguồn qua Ethernet (PoE) hoặc bộ đổi nguồn AC 18 V
Phạm vi nguyên tố Phương pháp phụ thuộc:
Mô hình MR: Mg–U
Mô hình CW: Ti–U (với cửa sổ tiêu chuẩn và hiệu chuẩn)
Hiệu chỉnh áp suất Phong vũ biểu tích hợp để điều chỉnh độ cao và áp suất không khí tự động
Xếp hạng IP IP54
Môi trường hoạt động Phạm vi nhiệt độ: –10 °C đến 50 °C (14 °F đến 122 °F) theo chu kỳ
làm việc liên tục Độ ẩm: 10% đến 90% độ ẩm tương đối, không ngưng tụ
Hệ điều hành Linux
Phần mềm ứng dụng Gói thu thập và xử lý dữ liệu độc quyền của Olympus

Máy phân tích XRF trong dây chuyền Vanta™ iX để phân tích vật liệu tự động

Luôn cập nhật quy trình của bạn

Máy phân tích huỳnh quang tia X nội tuyến (XRF) Olympus Vanta™ iX mang đến cho bạn sự tự tin vào sản phẩm của mình bằng cách tự động hóa phân tích vật liệu và nhận dạng hợp kim trên dây chuyền sản xuất:

  • Cung cấp kết quả tức thì để giám sát quy trình theo thời gian thực và kiểm tra 100%
  • Được xây dựng để hoạt động 24/7
  • Được cấu hình để cung cấp kết quả đạt / không đạt, ID lớp chính xác và hóa học vật liệu

Đánh giá

Chưa có đánh giá nào.

Hãy là người đầu tiên nhận xét “Phân tích XRF trong dây chuyền”

Sản phẩm tương tự

Máy phân tích XRF Vanta Max & Core

Máy phân tích XRF Vanta Element

ĐỐI TÁC

Intel Viet Nam

Samsung Viet Nam

TTI Group

LG Viet Nam

Honda Viet Nam

Yamaha Viet Nam

Bosch Viet Nam